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容易污染HPLC-MS(ESI+)的化合物与LC-MS中常见本底离子
2017.09.28   点击1323次

容易污染HPLC-MS(ESI+)的化合物 

 m/z Ion Compound m/z Ion Compound
 42 (M + H)+ 乙腈(ACN) 179 (2M + Na)+ DMSO
 59 (M + NH4)+ 乙腈 186 (M + H)+ 三丁基胺
 64 (M + Na)+ 乙腈 214 (M + H)+ 未确定,可能与甲醇有关
 65 (2M + 1)+ 甲醇 225 (M + H)+ DCU
 79 (M + H)+ DMSO 239 /241 [(M·HCl)2-Cl]+ 三乙胺
 83 (2M + H)+ 乙腈 242 (M + H)+ 四丁基铵离子
 85 (M + H)+ D6-DMSO 243 (M)+ 三苯甲基阳离子
 101 (M + Na)+ DMSO 257 (3M + H)+ DMSO
 102 (M + H)+ 三乙胺(TEA) 273 (M)+ 氧基三苯甲基阳离子 MMT
 104 /106 (M + Cu)+ 乙腈 279 (M + H)+ 邻苯二甲酸二丁酯(增塑剂)
 105 (2M + Na)+ 乙腈 301 (M + Na)+ 邻苯二甲酸二丁酯(增塑剂)
 120 (M + Na + ACN)+ DMSO 317 (M + K)+ 邻苯二甲酸二丁酯(增塑剂)
 122 (M + H)+ Tris 338 (M + )+ 芥酸酰胺
 123 (M + H)+ DMAP 360 (M + Na)+ 芥酸酰胺
 130 (M + H)+ DIPEA 391 (M + H)+ 邻苯二甲酸二异辛酯(增塑剂)
 144 (M + H)+ 三丙胺TPA 413 (M + Na)+ 邻苯二甲酸二异辛酯(增塑剂)
 145 /147 (2M + Cu)+ 乙腈 425 (M + Na)+ 未确定污染物(增塑剂)
 146 (3M + Na)+ 乙腈 429 (M + K)+ 邻苯二甲酸二异辛酯(增塑剂)
 150 (M + H)+ 苯基二乙胺 449 (2M + H)+ DCU
 157 (2M + H)+ DMSO 454 (M + Na + ACN)+ 邻苯二甲酸二异辛酯(增塑剂)
 159 (M + Na)+ 三氟乙酸钠 798 (M + H)+ 邻苯二甲酸二异辛酯(增塑剂)
 169 (2M + H)+ D6-DMSO 803 (M + H)+ 邻苯二甲酸二异辛酯(增塑剂)

 LC-MS中常见本底离子

 m/z 50-150 溶剂离子 [(H2O)nH+, n=3-112]
 m/z 102 H+乙腈 + 乙酸 C4H7NO2H+ 102.0549
 m/z 149 管路中邻苯二甲酸酯的酸酐 C8H4O3H+ 149.0233
 m/z 288 2mm 离心管的产生的特征离子

 m/z 279 管路中邻苯二甲酸二丁酯 C16H22O4H+ 279.1591
 m/z 316 2mm 离心管的产生的特征离子

 m/z 384 瓶的光稳定剂产生的离子

 m/z 391 管路中邻苯二甲酸二辛酯 C24H38O4H+ 391.2843
 m/z 413 邻苯二甲酸二辛酯 + 钠 C24H38O4Na+ 413.2668
 m/z 538 乙酸 + 氧 + 铁(喷雾管) Fe3O(O2CCH3)6 537.8793

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