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铱(Ir)标准品,500 mL,在20% HCl溶液中含有1000µg/mL的Ir
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镥(Lu)标准品,100 mL,在2% HNO3溶液中含有10µg/mL的Lu
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锇(Os)标准品,100 mL,在20% HCl溶液中含有1000µg/mL的Os
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铟(In)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的In
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铯(Cs)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Cs
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铌(Nb)标准品,500 mL,在2% HF溶液中含有10000µg/mL的Nb
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镓(Ga)标准品,100 mL,在包含0.5% HCl的5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Ga
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锗(Ge)标准品,500 mL,在5% HNO3和痕量HF溶液中含有1000µg/mL的Ge
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铯缓冲液,在500 mL溶液中浓度10%
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碲(Te)标准品,100 mL,在30% HCl溶液中含有1000µg/mL的Te
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Flazasulfuron
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镓(Ga)标准品,100 mL,在包含0.5% HCl的5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Ga
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镱(Yb)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Yb
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铷(Rb)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Rb
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铟,10µg/mL,100 mL
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钽(Ta)标准品,500 mL,在2% HF溶液中含有1000µg/mL的Ta
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铊(Tl)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Tl
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铊(Tl)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Tl
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铽(Tb)标准品,100 mL,在2% HNO3溶液中含有10µg/mL的Tb
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钽(Ta)标准品,100 mL,在2% HF溶液中含有1000µg/mL的Ta
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铽(Tb)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Tb
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铼(Re)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Re
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铷(Rb)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Rb
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锗(Ge)标准品,100 mL,在5% HNO3和痕量HF溶液中含有1000µg/mL的Ge
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OPA试剂,邻苯二甲醛和3-巯基丙酸各10 mg/mL,溶于0.4 M硼酸盐缓冲液中,6 x 1 mL
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铥(Tm)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Tm
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镥(Lu)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Lu
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GFAA基质改性剂,硝酸钯,硝酸镁,750µg/mL Pd,500µg/mL Mg(NO3)2,250 mL
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镥(Lu)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Lu
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镱(Yb)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Yb
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铕(Eu)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Eu
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镥(Lu)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Lu
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ESI-L LCMS调谐溶液
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Trifloxysulfuron
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用于ICP-MS的调谐溶液
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ICP-OES波长校准溶液;500 mL,在5% HNO3溶液中含有5 mg/L的Al,As,Ba,Cd,Co,Cr,Cu,Mn,Mo,Ni,Pb,Se,Sr,Zn和50 mg/L的K
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铱(Ir)标准品,100 mL,在20% HCl溶液中含有10000µg/mL的Ir
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钨(W)标准品,500 mL,在5% HNO3和痕量HF溶液中含有10000µg/mL的W
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ICP-MS储备调谐溶液
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镨(Pr)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Pr
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