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Flazasulfuron
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ISTD钪(Sc)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Sc
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钌(Ru)标准品,100 mL,在20% HCl溶液中含有10000µg/mL的Ru
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铯(Cs)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Cs
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铊(Tl)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Tl,用于AA和MP-AES
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GFAA基质改性剂,硝酸钯,硝酸镁,750µg/mL Pd,500µg/mL Mg(NO3)2,250 mL
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铯(Cs)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Cs
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碲(Te)标准品,500 mL,在30% HCl溶液中含有1000µg/mL的Te
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钪(Sc)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Sc
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硝酸铯(Cs)电离缓冲液,100 mL,硝酸铯溶于5% HNO3溶液中
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钆(Gd)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Gd
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锶缓冲液(Sr),500 mL,在5%硝酸溶液中含有100000μg/mL的Sr
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铑(Rh)标准品,100 mL,在20% HCl溶液中含有1000µg/mL的Rh
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钽(Ta)标准品,500 mL,在2% HF溶液中含有10000µg/mL的Ta
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铱(Ir)标准品,500 mL,在20% HCl溶液中含有1000µg/mL的Ir
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Trifloxysulfuron
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锗(Ge)标准品,500 mL,在5% HNO3和痕量HF溶液中含有1000µg/mL的Ge
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镉(Cd)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Cd
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钪(Sc)标准品,100 mL,在2% HNO3溶液中含有10µg/mL的Sc
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钬(Ho)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Ho
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铯缓冲液,在500 mL溶液中浓度10%
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硝酸钯GFAA基体改性剂,100 mL,含0.1% Pd
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镓(Ga)标准品,100 mL,在包含0.5% HCl的5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Ga
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磷(P)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的P
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碲(Te)标准品,100 mL,在30% HCl溶液中含有10000µg/mL的Te
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碲(Te)标准品,500 mL,在30% HCl溶液中含有10000µg/mL的Te
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铊(Tl)标准品,500 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Tl
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镓(Ga)标准品,100 mL,在包含0.5% HCl的5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Ga
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碲(Te)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有1000µg/mL的Te,用于AA和MP-AES
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锇(Os)标准品,100 mL,在20% HCl溶液中含有1000µg/mL的Os
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锗(Ge)内标,100 mL,在2% HNO3和痕量HF溶液中含有10µg/mL的Ge
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咖啡因的甲醇溶液标准品,用于超临界流体色谱(SFC)
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镥(Lu)标准品,100 mL,在2% HNO3溶液中含有10µg/mL的Lu
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铷(Rb)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的Rb
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铟(In)标准品,100 mL,在5% HNO3溶液中含有10000µg/mL的In
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铱(Ir)标准品,100 mL,在2% HCl溶液中含有10µg/mL的Ir
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Manual 123/2015 Ethers Sol,1000 ug/mL-1X1ML
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钨(W)标准品,500 mL,在5% HNO3和痕量HF溶液中含有10000µg/mL的W
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碲(Te)标准品,100 mL,在30% HCl溶液中含有1000µg/mL的Te
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硅(Si)标准品,50 g,在75 cSt烃油中含有1,000µg/g的Si
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