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陶氏研发成功新型半导体涂层
2004.10.15   点击272次

美国陶氏化学公司宣布和美国密苏里州的布鲁尔(Brewer)科学公司达成常年合作开发协议,共同研发新型半导体材料用底层抗反射涂层。

陶氏化学公司认为合作将充分发挥陶氏化学在化学品方面的优势,同时发挥布鲁尔公司在材料技术和制造方面的优势,更加方便新型材料的研发。