| CAS: | 210363-27-2 | ||||
| 英文名称: |
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| 货号 | 品牌 | 产品名称 | 规格 | 包装、参考价格 | 详情 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 41-0450 | Strem | (t-Butylimido)tris(diethylamino)niobium(V) | min. 98% | 1575元/1g; 6255元/5g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Technical Notes: 1.ALD/CVD precursor for niobium thin film de position 2.J. Chinese ( hem. Soc.1998 45, 355 3.Chem. Mater. 2012. 24. 975 4.J. Vac. Sci. Techno/. A. 2018. 36. 041503 Chem. Vap. [ eposition 2009.15.334 5.J.Vac.Sci.Technol. A.2017 35.01B143 6.Thin Solid Films 2020. 709._ 138232 7.Supercond. Sci. Techno/. 201 7.30, 095010 8.J.Vac. Sci. Technol. A. 2020. 38. 022408 9.ACS Appl. Nano Mater. 2021. 4.514 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 751774 | Sigma-Aldrich | Tris(diethylamido)(tert-butylimido)niobium(V) | packaged for use in deposition systems | 9791.51元/10 G; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
基本信息
产品性质
安全信息
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