| CAS: | 19824-59-0 | |
| 分子式: | C10H30N5Ta | |
| 分子量: | 401.33 | |
| 沸点: | 100℃(0.0 | |
| 熔点: | 150℃ | |
| 英文名称: |
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| 货号 | 品牌 | 产品名称 | 规格 | 包装、参考价格 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| P920671 | MACKLIN | 五(二甲氨基)钽(V) | 99% | 2555元/5g; | 咨询 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
储存:室温,干燥,密封,充气 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 73-0800 | Strem | Pentakis(dimethylamino)tantalum(V) | min 98% PDMAT | 975元/1g; 3930元/5g; 15705元/25g; | 咨询 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Catalvsis Applications Technical Notes: 1. Catalyst for the direct hydroaminoalkylation of unactivated olefins with N-alkyI arylamines, dialkylamines and of secondary amines. References: 1.J.Am Chem Soc 2007.129 6690 2.J.Am Chem Soc 2008 130 14940 3.Angew Chem. Int. Ed 2009 48 8361 CVD/ALD Applications Technical Notes: 1.ALD/CVD precursor for tantalum thin film deposition | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 496863 | Sigma-Aldrich | Pentakis(dimethylamino)tantalum(V) | 99.99% | 3594.87元/5 G; | 咨询 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
产品说明 一般描述 基材原子数:73 钽 包装 5 g in glass bottle 特点和优势 氮化钽 (TaN) 薄膜的挥发性固体 CVD 前体。当在沉积过程中存在 O2、H2O、NO 或 H2O2 时,还会形成氧化钽 (Ta2O5) 薄膜。 Ta2O5 薄膜作为集成电路制造中的栅电介质材料具有广阔的应用前景。 基本信息
产品性质
安全信息
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