| CAS: | 19782-68-4 | |||
| 分子式: | C8H24HfN4 | |||
| 分子量: | 354.79 | |||
| 沸点: | 85 °C at 0.1 mmHg (lit.) | |||
| 熔点: | 26-29 °C (lit.) | |||
| 中文名称: |
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| 英文名称: |
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| 货号 | 品牌 | 产品名称 | 规格 | 包装、参考价格 | 详情 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| T922507 | MACKLIN | 四(二甲胺基)铪 | 99.9999% metals basis | 14899元/25g; 38999元/100g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
储存:室温,干燥 状态:无色或白色到浅黄色粉末或晶体或固体或液体 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| T787390 | MACKLIN | 四(二甲胺基)铪 | 99.99% | 916元/1g; 3200元/5g; 11100元/25g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
储存:室温,干燥 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 72-8000 | Strem | Tetrakis(dimethylamino)hafnium | 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM | 1455元/1g; 3840元/5g; 11460元/25g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Technical Notes: 1.ALD/CVD precursor for Hf thin film deposition. References: 1. Chem. Mater. 2002. 14, 4350. 2.J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 3518. 3.Appl. Phys. L ett. 2007, 90, 182907. 4.Chem. Mater. 2004, 16.3497 . 5.Chem. Mater._ 2001 A 13. 2463. 6.Appl.Surf._ Sci.. 2014. 321, 214. 7.Adv. Mater. Interfaces 2020, Z, 2001493. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 98-4022 | Strem | Tetrakis(dimethylamino)hafnium | 98+% (99.99+%-Hf, <0.2%-Zr) TDMAH, PURATREM, 72-8000, contained in 50ml Swagelok? cylinder (96-1071) for CVD/ALD | 27510元/25g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 98-4021 | Strem | Tetrakis(dimethylamino)hafnium | 98+% (99.99+%-Hf, <0.2%-Zr) TDMAH, PURATREM, 72-8000, contained in 50 ml Swagelok? cylinder (96-1070) for CVD/ALD | 23850元/25g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 455199 | Sigma-Aldrich | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) | ≥99.99% | 12588.6元/25 G; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
产品说明 一般描述 请咨询批量、价格和包装选择。 包装 25 g in ampule 分析说明 纯度:锆含量低于 ~2000ppm。 基本信息
产品性质
安全信息
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| 666610 | Sigma-Aldrich | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) | packaged for use in deposition systems | 25165.7元/25 G; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
产品说明 一般描述 铪烷基酰胺是制备平滑非晶氧化铪薄膜的一种简便有效的原子层沉积前驱体。 应用 用作氧化铪纳米层压板的原子层沉积的前体,其用作半导体器件中的氧化硅的替换物。 包装 25 g in stainless steel cylinder 基本信息
产品性质
安全信息
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