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沃特世ACQUITY UPLC BEH Amide色谱柱故障常见征兆
2020.06.24   点击251次

沃特世ACQUITY UPLC BEH Amide色谱柱系统故障排除的第一步是将当前状态下的色谱柱同正确运行的色谱柱进行对比。塔板数测量方法是关键性首要步骤。该技术将检测填充床的物理变化和键合相表面的化学变化。采用糖蛋白性能测试标准品中的核糖核酸酶A和B糖型进行的功能测试可揭示表面填料中的更多微小变化,这些微小变化会对应用造成影响。

下面列出了色谱柱发生变化的几个常见的征兆。

1、应用中压力增大通常与性能降低相关。

诊断的第一步是确保增高的压力源于色谱柱而不是系统的其它地方。这可以通过测量色谱柱连接和不连接到仪器时的压力来进行鉴定。如果系统出现堵塞,应确定堵塞物并将其移除。如果压力增加源于色谱柱,则有必要了解此问题与单次进样相关还是发生在一系列进样中。如果压力逐渐增加,则可以按推荐方法清洗色谱柱。为实现更好的稳定性,可以在清洗时添加更强的再生步骤。如果是单个样品引起压力增加,则可能表明是颗粒物质或不溶性组分造成的。用户仍可进行清洗,但需要使用更为积极的清洗方法。压力突然增高表明用户应考虑采用一些样品制备步骤,如高速离心。

2、保留损失反映出色谱柱的表面填料发生了变化。进行诊断性或纠正性测量前,请确保流动相已正确配制,并且选择了正确的方法。然后重复塔板数测试并重复分离糖蛋白性能测试标准品。如果塔板数和糖蛋白测试均出现保留损失,则所测的色谱柱可能已经失去了大部分键合相,需要进行更换。如果变化较小且只出现在一些糖基上,则一种清洗步骤就可以达到效果。

3、峰形、分离度或峰的相对保留出现变化。请参照与保留损失中相同的步骤。

4、残留和记忆效应定义为在下个梯度分析中出现某个样品成分。首先确定残留来源于色谱柱还是系统。定义一种包括“内部梯度”的梯度方法。即,分析梯度在单个方法中重复。如果两个梯度中均出现残留成分的色谱峰,且每个峰均在梯度开始后的相同时间出现,则残留来源于色谱柱,且通常称作“记忆效应”。如果这类色谱峰仅在进样后出现,则残留可能来源于对一些系统组分的吸收。在这种情况下,请参照仪器制造商的建议。用户可以通过几种方法降低或消除残留导致的记忆效应。首先,提高分离温度可降低非特异性吸附出现的可能性。其次,在陡峭梯度中记忆效应可能更明显。使梯度斜率保持在每色谱柱体积1%或更低。最后,明显的记忆效应可切实反映出样品在流动相中的溶解性。降低进样量可消除该效应。

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