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PDC-MG等离子清洗机
PDC-MG等离子清洗机图片
仪器产地:国产等离子清洗器
控制类型:半自动
气路:二路浮子流量计: 0.2~1.5 L/min 量程,方便二种气体按比例混合;
样品腔材质:耐热玻璃
样品腔尺寸:Φ165mm×L210mm
功率:150W
射频频率:13.56MHz


产品名称
Plasma Cleaners
产品介绍

一、PDC-MG等离子清洗机产品概述:

铭恒等离子清洗机PDC-MG配备有各种数字式仪表,能更加精确的记录各个实验参数。该款设备操作更为简便,只需要-一个开关键即可对整个清洗过程进行控制。该型号等离子清洗机具备更为高的射频功率,使得等离子清洗的应用面更为宽广,除普通的清洗功能外,还具备表面改性、键合、浅刻蚀等功能。

通过国家辐射环境管理监测站检验,符合国家相关产品标准要求。

二、PDC-MG等离子清洗机技术参数:

1、型号规格:PDC-MG;

2、整机规格:500×300×300(长×宽×高)mm;

3、整机重量:30 Kg;

4、反应舱规格:Φ165×L210 mm (耐热玻璃);

5、反应舱有效容积:4.5 L;

6、输入电源:220V/50Hz;

7、整机输入功率:400 W;

8、射频功率:0~150W(连续可调);

9、射频频率:13.56 MHz;

10、极限真空度:60 Pa;

11、数字式定时器范围:0-99.99 min;

12、数字式电流表和数字式电压表:方便判断工作中的功率大小;

13、二路浮子流量计: 0.2~1.5 L/min 量程,方便二种气体按比例混合;

14、玻璃观察窗:观察清洗舱内辉光的状态;

15、常用工作气体:空气、氩气、氨气或混合气体等;

三、PDC-MG等离子清洗机主要应用:

1、高分子材料表面修饰。

2、清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

3、移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。

4、清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。

5、清洗半导体元件、印刷线路板。

6、清洗生物芯片、微流控芯片。

7、清洗沉积凝胶的基片。

8、清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。

9、牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。

10、改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

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