CAS: | 2081-12-1 | |||
分子式: | C16H36O4Zr | |||
分子量: | 383.68 | |||
沸点: | 70℃(2 to | |||
英文名称: |
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用途: | 叔丁醇锆(IV)可用于合成手性N-叔丁烷亚磺酰基三氟甲基酮亚胺。 |
货号 | 品牌 | 产品名称 | 规格 | 包装、参考价格 | 详情 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Z923165 | MACKLIN | 叔丁醇锆 | electronic grade, 99.999% trace metals basis | 620元/1g; 2040元/5g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
储存:室温 状态:无色到黄色液体 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
40-1749 | Strem | Zirconium(IV) t-butoxide | 99% | 1260元/5g; 4995元/25g; 15000元/4×25g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
40-1750 | Strem | Zirconium(IV) t-butoxide | (99.99%-Zr) PURATREM | 810元/2g; 3225元/10g; 11250元/2×25g; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
560030 | Sigma-Aldrich | Zirconium(IV) tert-butoxide | electronic grade, 99.999% trace metals basis | 1915.14元/5 G; 8985.09元/25 G; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
产品说明 应用 叔丁醇锆(IV)可用于合成手性N-叔丁烷亚磺酰基三氟甲基酮亚胺。用于光学应用不锈钢基材上的氧化锆涂层可以通过叔丁醇锆(IV)前体,通过溶胶凝胶法进行制备。 包装 5, 25 g in ampule 基本信息
产品性质
安全信息
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759554 | Sigma-Aldrich | Zirconium(IV) tert-butoxide | packaged for use in deposition systems | 8874.32元/25 G; | 展开 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
产品说明 应用 Zirconium tert-butoxide (ZTB) precursor is used to deposit thin films of Zirconia and other zirconium containing films by atomic layer deposition and chemical vapor deposition methods. Zirconium oxide thin films can also be grown at low temperatures, ranging from 150℃ to 300℃, by the presence of moisture along with ZTB or by UV-enhanced atomic layer deposition (UV-ALD) process. 包装 25 g in stainless steel cylinder 基本信息
产品性质
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